作品总结
《半导体的等离子体处理技术》
《半导体的等离子体处理技术Plasma Processing of Semiconductors》包含来自 18 位专家的 28 篇贡献，涵盖等离子蚀刻、等离子沉积、等离子表面相互作用、数值建模、等离子诊断、不太传统的等离子处理应用和工业应用。
受众：涵盖范围从入门到最新技术，因此本书适合寻求该领域介绍的研究生以及希望拓宽或更新知识的资深工作者。
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