《用于光刻的 EUV 光源》本书由SEMATECH资深技术人员主编，是EUV光源技术的权威参考书。该卷包含由 EUV 光源领域的主要研究人员和供应商贡献的 38 个章节。

《下一代光刻材料和工艺》随着半导体行业对分辨率和速度的要求越来越高，有必要将光刻胶材料推向远超先前设想的能力。目前，在全球范围内对所谓的下一代光刻技术（例如 EUV 光刻和多束电子束光刻）进行了大量研究。

矢量代数、坐标系、矢量微分算子、梯度、散度、卷曲、散度定理、斯托克斯定理、库仑定律、电场强度、点、线、面和体积电荷分布、电通量密度、高斯定律及其应用、高斯发散定理，绝对电势，电势差，不同配置的电势差计算。电偶极子、静电能量和能量密度。

《数字设计：原理与实践第 5 版》，建立数字设计原则的坚实基础；

《采样理论与模数转换》为什么要写另一本关于采样理论和模数转换的书？本书采用线性系统理论方法进行模数转换。从线性系统理论，我们引入采样理论，并使用线性系统理论的工具来证明香农的采样定理。

《极紫外光刻》极紫外光刻 (EUVL) 是超越当前基于 193 纳米的光学光刻的主要光刻技术，旨在制造计算机芯片，最近在几个方面取得了进展：EUV 光源、扫描仪、光学、污染控制、面具和面具处理，并抵抗。本书涵盖了该领域使用的 EUVL 各个方面的基本和最新状态。

《模拟电子学：理论与实践》模拟电子学（理论与实践）主要面向印度技术大学和工程学院的 UG 学生。它还将作为在职专业和有竞争力的考试有志者的复习。

《光学光刻的基本原理：微细加工科学》集成电路的制造需要在半导体衬底上执行各种物理和化学过程。一般来说，这些工艺分为三类：薄膜沉积、图案化和半导体掺杂。导体和绝缘体的薄膜用于连接和隔离晶体管及其组件。

《模数转换，第三版》这本教科书适用于模数转换的研究生课程，也适用于需要有关数据转换器的最新参考资料的执业工程师。它讨论了各种模数转换原理，包括采样、量化、参考生成、奈奎斯特架构和 sigma-delta 调制。

《用于模数信号转换的对数电压时间转换器》本书介绍了一种基于交叉耦合逆变器的新型对数转换架构。