《硬件安全的新兴话题》本书概述了硬件安全领域的新兴主题，例如人工智能和量子计算，并重点介绍了如何利用这些技术来保护硬件和确保电子供应链。

《硬件黑客手册》带您深入了解嵌入式设备，展示不同类型的攻击是如何工作的，然后指导您完成对真实硬件的每个黑客攻击进行应对。

《光学和 EUV 光刻：建模视角》最先进的半导体光刻技术将我们世界上最先进的光学系统与精心设计和高度优化的光化学材料和工艺相结合，以制造能够实现现代信息社会的微米和纳米结构。纳米图案的精确制造和表征需要深入了解所有涉及的物理和化学效应。

《用于光刻的 EUV 光源》本书由SEMATECH资深技术人员主编，是EUV光源技术的权威参考书。该卷包含由 EUV 光源领域的主要研究人员和供应商贡献的 38 个章节。

《下一代光刻材料和工艺》随着半导体行业对分辨率和速度的要求越来越高，有必要将光刻胶材料推向远超先前设想的能力。目前，在全球范围内对所谓的下一代光刻技术（例如 EUV 光刻和多束电子束光刻）进行了大量研究。

矢量代数、坐标系、矢量微分算子、梯度、散度、卷曲、散度定理、斯托克斯定理、库仑定律、电场强度、点、线、面和体积电荷分布、电通量密度、高斯定律及其应用、高斯发散定理，绝对电势，电势差，不同配置的电势差计算。电偶极子、静电能量和能量密度。

《数字设计：原理与实践第 5 版》，建立数字设计原则的坚实基础；

《采样理论与模数转换》为什么要写另一本关于采样理论和模数转换的书？本书采用线性系统理论方法进行模数转换。从线性系统理论，我们引入采样理论，并使用线性系统理论的工具来证明香农的采样定理。

《极紫外光刻》极紫外光刻 (EUVL) 是超越当前基于 193 纳米的光学光刻的主要光刻技术，旨在制造计算机芯片，最近在几个方面取得了进展：EUV 光源、扫描仪、光学、污染控制、面具和面具处理，并抵抗。本书涵盖了该领域使用的 EUVL 各个方面的基本和最新状态。

《模拟电子学：理论与实践》模拟电子学（理论与实践）主要面向印度技术大学和工程学院的 UG 学生。它还将作为在职专业和有竞争力的考试有志者的复习。