作品总结
《下一代光刻材料和工艺》
《下一代光刻材料和工艺》随着半导体行业对分辨率和速度的要求越来越高，有必要将光刻胶材料推向远超先前设想的能力。目前，在全球范围内对所谓的下一代光刻技术（例如 EUV 光刻和多束电子束光刻）进行了大量研究。
工业和学术光刻领域的这些发展导致了许多新方法的扩散，以抵抗化学和传统光聚合物的巧妙扩展。目前，该领域的大多数文本都侧重于光刻技术，可能只有一两章关于抗蚀剂，或者侧重于传统抗蚀剂材料，而对新方法的考虑相对较少。
因此，本书旨在将来自各个社区的世界上最重要的抗蚀剂开发科学家聚集在一起，在一个地方对光刻制造的多种方法进行明确的描述。
收集来自世界一流抗蚀剂化学家和技术开发平版印刷师的最新信息，了解目前正在研究的各种抗蚀剂材料的特性和能力
包括有关处理和计量技术的信息
将学术界和工业界的多种光刻模式记录方法集中在一个地方
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