作品总结
《光学和 EUV 光刻：建模视角》
《光学和 EUV 光刻：建模视角》最先进的半导体光刻技术将我们世界上最先进的光学系统与精心设计和高度优化的光化学材料和工艺相结合，以制造能够实现现代信息社会的微米和纳米结构。纳米图案的精确制造和表征需要深入了解所有涉及的物理和化学效应。本书从模型驱动的角度支持这种理解，但没有强调数学重点。本书的材料是在弗里德里希-亚历山大-埃尔兰根-纽伦堡大学多年讲授光学光刻技术、物理效应和建模过程中编写的，也是为准备光刻特殊方面的专门课程而编写的。本书旨在向具有物理、光学、计算工程、数学、化学、材料科学、纳米技术和其他领域背景的感兴趣的学生介绍纳米加工光刻技术的迷人领域。它还应该帮助高级工程师和管理人员扩展他们对替代方法和应用的了解。
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