《定向自组装光刻的物理设计和掩模合成(Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography)》
作者：
日期：2022-12-23
出版：
- 167
- 0
- 2
作品总结
《定向自组装光刻的物理设计和掩模合成(Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography)》
本书讨论了定向自组装光刻（DSAL）的物理设计和掩模合成。它涵盖了DSAL技术的基本背景，物理设计优化，如放置和冗余插入，DSAL掩模合成及其验证。定向自组装光刻（DSAL，Directed Self-Assembly Lithography）是7nm以下技术中非常有前途的图案化解决方案。
客服咨询
400 093 7005
周一至周日：09:00AM-21:00PM
微信扫码关注
小程序扫码注册
0条评论