《定向自组装光刻的物理设计和掩模合成(Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography)》
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日期：2022-12-23
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作品总结
《定向自组装光刻的物理设计和掩模合成(Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography)》
本书讨论了定向自组装光刻（DSAL）的物理设计和掩模合成。它涵盖了DSAL技术的基本背景，物理设计优化，如放置和冗余插入，DSAL掩模合成及其验证。定向自组装光刻（DSAL，Directed Self-Assembly Lithography）是7nm以下技术中非常有前途的图案化解决方案。
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