作品总结
《IC Mask Design: Essential Layout Techniques（IC 掩膜设计：重要的IC布局技术）》
《集成电路掩膜设计》教授集成电路 （IC） 工艺、掩膜设计技术和日常语言的基本概念。它从零开始发展想法，用简单的概念构建复杂的概念，不断强化所学到的案例、自我测试和覆盖所涵盖材料背后的动机和know how。
本教程的作者使用日常语言解释集成电路工艺、掩膜设计技术和基本器件概念。主题包括高频/射频布局技术、验证工具使用、匹配和噪声考虑、数字和模拟布局、寄生参数、平面规划等。IC layout中的重要概念通过示例、预览点、侧边栏和自我测试得到了强化。
学习集成电路面膜设计的纯英语指南
对经验丰富的专业人士和初学者来说都是一本必不可少的参考书籍。
现在你不需要工程背景来掌握基本的集成电路面罩设计！在这个简单无行话的教程中，IBM顶级讲师之一克里斯·圣（Chris Saint）彻底涵盖了从初始布局到最终验证的所有内容。使用清晰的日常语言，即使是初学者也能理解，这个基本的入门，丰富的实用技术，涵盖：
* 集成电路工艺
* 高频/射频布局技术
* 基本器件概念
* 验证工具的使用和样品
*匹配和噪声考虑
*数字和模拟布局
* 寄生参数
* 平面规划
* 封装
* 关键经验法则
* 全面分析完整的 CMOS 和双极布局示例的两个广泛的案例研究
Chris 和 Judy Saint 采用逻辑分层教学方法，从头开始提出复杂的概念，在简单的基础上再接再厉，直到复杂变得清晰。为了加强关键技术，每一章都包括示例、自我测试、侧边栏、预览点、"动机"框、工作学习示例以及作者令人耳目一新的幽默。
《IC掩膜设计》由一位有成就的企业教师共同撰写，并利用成熟的教学方法和材料，是工程师新手了解IC掩膜设计各个阶段和实用技术的最快途径。这里包含的经验法则——通过多年的经验磨练，将比简单的学习过程给layout设计师带来更深刻的理解。
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