作品总结
《半导体的异质外延：理论、生长和表征，第二版》
《半导体的异质外延：理论、生长和表征，第二版》，在过去的十年中，随着电子行业的爆炸式增长以及用于固态照明、绿色能源、显示、通信和数字计算的无数异质外延器件的发展，异质外延的重要性不断增加。 我们对异质外延的基本物理和化学，尤其是晶格弛豫和位错动力学的理解不断加深，使得对变质器件的重视程度不断提高。 为了反映这一重点，这个新版本中包含了两个全新的章节。 一章介绍变形缓冲层，另一章介绍变形设备。 剩下的七章已经用关于晶体对称性和关系、III 族氮化物材料、晶格弛豫物理和模型、原位表征和倒易空间图的新材料进行了广泛的修订。
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