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本专利描述了用于多级脉冲和射频(RF)信号频率的多级脉冲的系统参数和方法。参数从低电平脉冲到高电平脉冲。同时对脉冲参数和频率进行调节,以提高晶圆的加工速率,增加掩模选择性,并减少等离子体腔室内离子的角度扩散。
本专利描述了用于多级脉冲和射频(RF)信号频率的多级脉冲的系统参数和方法。参数从低电平脉冲到高电平脉冲。同时对脉冲参数和频率进行调节,以提高晶圆的加工速率,增加掩模选择性,并减少等离子体腔室内离子的角度扩散。
本专利描述了用于多级脉冲和射频(RF)信号频率的多级脉冲的系统参数和方法。参数从低电平脉冲到高电平脉冲。同时对脉冲参数和频率进行调节,以提高晶圆的加工速率,增加掩模选择性,并减少等离子体腔室内离子的角度扩散。
本专利描述了无匹配等离子体源的频率调谐。为了执行频率调谐,在无匹配等离子体源的工作频率发生变化后,在无匹配等离子体源的放大电路的输出端测量电流。在确定电流随着工作频率的变化而增加时,工作频率进一步变化,直到电流减小。当电流减小时,改变的工作频率进一步修改为工作频率。当无匹配的等离子体源以工作频率工作时,放大电路输出端的电流最大化。
Lam Research Corporation 的专利:多状态射频脉冲控制掩模形状和破损选择性与工艺余量权衡(MULTI-STATE RF PULSING TO CONTROL MASK SHAPE AND BREAKING SELECTIVITY VERSUS PROCESS MARGIN TRADE-OFF)
本专利是提供了用于基板加工中的动态工艺过程控制的方法和系统,例如在半导体制造应用中。提供了一些示例系统和方法,用于原子层沉积(ALD)过程中的先进监控和机器学习。一些示例还涉及动态工艺过程控制和腔室参数匹配和气体管路充电时间的监控。
本公开专利申请文件涉及使用声波谐振器的射频滤波器,特别是用于通信设备中的射频滤波器;
移动通信设备,化学和生物测试设备以及其他电子设备使用小巧轻便的滤波器,振荡器,谐振元件和/或声学谐振器。
《METHODS AND IP CORES FOR REDUCING VULNERABILITY TO HARDWARE ATTACKS AND/OR IMPROVING PROCESSOR PERFORMANCE》 《METHODS FOR PROTECTING COMPUTER HARDWARE FROM CYBER THREATS》