《纳米压印光刻：纳米制造的使能工艺》

《纳米压印光刻：纳米制造的使能工艺》全面描述了纳米压印技术（NIL技术（纳米压印光刻 Nanoimprint Lithography (NIL)），这是制造纳米结构包括纳米半导体芯片的最有前途的低成本、高通量技术之一，也是 22、16 和 11 nm 节点的新兴光刻机的候选技术。本书提供了这一令人兴奋的多学科领域，提供了广泛的主题，涵盖：原理，工艺，材料和应用。
本书对纳米科学、纳米技术和纳米制造、材料、物理、化学、电气工程和生物学领域的研究人员和研究生特别感兴趣。
Nanoimprint lithography（纳米压印光刻）是一种制造纳米级图案的方法。它是一种简单的纳米光刻工艺，成本低，产量高，分辨率高。它通过压印抗蚀剂的机械变形和后续工艺来创建图案。压印抗蚀剂通常是一种单体或聚合物配方，在压印过程中通过加热或紫外光固化。抗蚀剂和模板之间的粘性得到控制，以允许适当的释放。
这个技术最早是在1995年被提出，并在之后的几年里得到了广泛的应用和发展。在纳米技术各领域，纳米压印光刻被广泛用于制造各种纳米级图案和结构。
这个技术的优点在于它的简单性、低成本和高产量。与传统的光刻技术相比，纳米压印光刻不需要复杂的光学系统和高精度的设备，因此可以节省大量的制造成本。同时，由于其高产量，纳米压印光刻可以满足大规模生产的需求。此外，由于其高分辨率，它可以制造出非常精细的图案和结构。
纳米压印光刻技术有很多种不同的工艺，其中最重要的三种是热塑性纳米压印光刻技术、光电纳米压印光刻技术和无抗蚀剂的直接热纳米压印光刻技术。这些不同的工艺都有各自的特点和应用范围。
总的来说，纳米压印光刻是一种非常有前途的纳米制造技术，它有望在未来的纳米科技领域发挥越来越重要的作用。