作品总结
《光掩膜制造技术手册》
《光掩膜制造技术手册》随着半导体行业试图增加芯片上最小空间的功能数量，新技术跟上这些需求变得越来越重要。光掩模技术是实现这一目标的关键领域之一。尽管文献中存在光掩模技术的简要概述，但《光掩模制造技术手册》是第一个对现有和新兴光掩模技术进行深入、全面的处理。
《光掩模制造技术手册》收录了来自工业界、学术界、政府、国家实验室和财团的 40 位国际知名作者的贡献。这些作者讨论了传统掩模及其支持技术，以及下一代非光学技术，如极紫外、电子投影、离子投影和 X 射线光刻。本书首先概述了光掩模的发展历史。然后，按照实际生产中观察到的顺序，演示设计、生产、测试、检查和修复光掩模所涉及的步骤。文本还包括有关所用材料以及建模和模拟的部分。
光掩模制造工艺的不断改进开启了纳米光刻的亚波长时代。这本宝贵的手册综合了这些改进，并提供了实现下一代微加工技术所需的工具和可能性。
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