作品总结
《用于光刻的 EUV 光源》
《用于光刻的 EUV 光源》本书由SEMATECH资深技术人员主编，是EUV光源技术的权威参考书。该卷包含由 EUV 光源领域的主要研究人员和供应商贡献的 38 个章节。主题范围从对 EUV 源要求的最新概述和深入解释，到基于放电产生等离子体 (DPP) 和激光产生等离子体 (LPP) 的 EUV 源的基本原子数据和理论模型，描述突出的 DPP 和 LPP 设计以及用于产生 EUV 辐射的其他技术。其他主题包括 EUV 源计量和组件（收集器、电极）、碎片缓解和 EUV 源中组件侵蚀的机制。该卷旨在满足该技术从业者和寻求该主题介绍的读者的需求。
客服咨询
400 093 7005
周一至周日：09:00AM-21:00PM
微信扫码关注
小程序扫码注册
0条评论