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日期:2023-07-16
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这本参考书籍包含 300 多个方程和近 500 张图纸、照片和显微照片,同时本书调查了光学测量和在线校准方法等关键领域。
本书描述了硅集成电路制造过程中使用的基于洁净室的测量技术,并涵盖了基于模型的临界尺寸、覆盖层、声膜厚度、掺杂剂剂量、结深和电气测量;颗粒和缺陷检测;和化学机械抛光后的平整度。
本书提供了完善的计量功能示例,重点介绍了光刻、晶体管、电容器和片上互连工艺技术的计量。
《先进的功率 MOSFET 概念》
《面向集成电路设计人员的布局技术》
《扇出晶圆级封装(Fan-Out Wafer-Level Packaging)》
《模拟集成电路的电磁兼容性(EMC of Analog Integrated Circuits )》
《硅芯片可靠性管理指南》
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