热门搜索:
首页
文库
书籍之外
登录
注册
作者:
日期:2023-07-16
出版:
分享
这本参考书籍包含 300 多个方程和近 500 张图纸、照片和显微照片,同时本书调查了光学测量和在线校准方法等关键领域。
本书描述了硅集成电路制造过程中使用的基于洁净室的测量技术,并涵盖了基于模型的临界尺寸、覆盖层、声膜厚度、掺杂剂剂量、结深和电气测量;颗粒和缺陷检测;和化学机械抛光后的平整度。
本书提供了完善的计量功能示例,重点介绍了光刻、晶体管、电容器和片上互连工艺技术的计量。
《IC Mask Design: Essential Layout Techniques(IC 掩膜设计:重要的IC布局技术)》
《用于模数信号转换的对数电压时间转换器》
《CMOS处理器和存储器(CMOS Processors and Memories)》
《三维集成电路设计EDA、设计和微体系结构(Three-Dimensional Integrated Circuit Design EDA, Design and Microarchitectures)》
SOI 电路设计概念(SOI Circuit Design Concepts)
0条评论