《采样理论与模数转换》为什么要写另一本关于采样理论和模数转换的书？本书采用线性系统理论方法进行模数转换。从线性系统理论，我们引入采样理论，并使用线性系统理论的工具来证明香农的采样定理。

《极紫外光刻》极紫外光刻 (EUVL) 是超越当前基于 193 纳米的光学光刻的主要光刻技术，旨在制造计算机芯片，最近在几个方面取得了进展：EUV 光源、扫描仪、光学、污染控制、面具和面具处理，并抵抗。本书涵盖了该领域使用的 EUVL 各个方面的基本和最新状态。

《模拟电子学：理论与实践》模拟电子学（理论与实践）主要面向印度技术大学和工程学院的 UG 学生。它还将作为在职专业和有竞争力的考试有志者的复习。

《光学光刻的基本原理：微细加工科学》集成电路的制造需要在半导体衬底上执行各种物理和化学过程。一般来说，这些工艺分为三类：薄膜沉积、图案化和半导体掺杂。导体和绝缘体的薄膜用于连接和隔离晶体管及其组件。

《模数转换，第三版》这本教科书适用于模数转换的研究生课程，也适用于需要有关数据转换器的最新参考资料的执业工程师。它讨论了各种模数转换原理，包括采样、量化、参考生成、奈奎斯特架构和 sigma-delta 调制。

《用于模数信号转换的对数电压时间转换器》本书介绍了一种基于交叉耦合逆变器的新型对数转换架构。

《射频微机械开关、开关网络和移相器》讨论了基于射频微机电系统 (RF MEMS) 的控制组件，将对研究人员和研发工程师有用。

《微波极化器、功率分配器、移相器、环行器和开关》讨论用于军事、商业、空间和地面通信的微波卫星开关的设计和开发的基本原则；

尽管大约有半个世纪的历史，但与半导体器件相关的研究领域仍然充满活力和令人兴奋。 新的和改进的设备正在以几乎疯狂的速度开发。

《III-V 化合物半导体：与硅基微电子集成》，硅基微电子器件在各种性能成本比指标上稳步提高。但经过数十年的处理器扩展，出现了基本限制和相当大的新挑战。